GAIA V2 肽標記流體處理器

GAIA V2 肽標記流體處理器

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

  GAIA V2是我們第二代合成單元，用于標記含放射性金屬（如68GA）的肽，如DOTATOC或PSMA。該設計經(jīng)過(guò)重新設計，最大限度地減小了尺寸，并進(jìn)行了優(yōu)化，以提供快速、簡(jiǎn)單和直觀(guān)的通用放射性示蹤劑的生產(chǎn)。已修改連接的位置，以減少對熱室空間的需要，并提高維護的便捷性。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

•合成時(shí)間短，減少因衰變而造成的產(chǎn)量損失

•不需要氣體

•高性能電加熱模塊，可快速高效地貼標記

•多個(gè)放射性探測器，以增強標記流程，實(shí)現高效生產(chǎn)質(zhì)量審查（檢測發(fā)展趨勢）

•集成過(guò)濾器完整性測試，減少質(zhì)量控制時(shí)間和成本

•簡(jiǎn)單可靠的機械結構，減少停機時(shí)間和維護成本

•功能單元（泵、閥齒輪、反應器…）可在幾個(gè)簡(jiǎn)單的步驟完成。

技術(shù)規格 

通信：USB或LAN（計算機Windows 7或更高版本，32或64位）

電源：230V

功耗：230V/100VA

工作條件：最大相對濕度70%，溫度10-40°C

超壓穩定性：5bar 

組件

蠕動(dòng)泵：+/-1 — +/-300rpm，帶旋轉和蓋傳感器

閥門(mén)數量：3 x 5

注射器支架數量：2

反應器數量：1

傳感器

放射性探測器：3個(gè)過(guò)程控制探測器

1個(gè)壓裂檢測器

氣壓傳感器：1

壓力傳感器：精度200至7000mbar：+/-10mbar

反應冷卻和加熱

動(dòng)態(tài)范圍：10-150°C

溫度精度：+/-1.0°C

加熱速度：25°C-100°C<50s

冷卻速度：100°C-30°C<7s

尺寸L379xW195xH307 mm（L14.92英寸x 7.67英寸x 12.08英寸）

帶入口/出口：L440mm（17.32’’）

最大重量：25 kg